ອະລູມິນຽມ Hydroxide ລະອຽດພິເສດ (UFAH) ເປັນອຸປະກອນການທໍາງານອະນົງຄະທາດໃນລະດັບ micron/nanometer (ສູດເຄມີ Al(OH)₃) ກະກຽມໂດຍຂະບວນການປະສົມປະສານຂອງ "ແກ່ນ induced nucleation + crushing ທາງອາກາດແລະການຈັດປະເພດ". ອະລູມິນຽມ hydroxide ທຳມະດາ (<5m²/g).
1. ການຄວບຄຸມທີ່ຊັດເຈນຂອງຂະຫນາດອະນຸພາກ submicron: ການດຸ່ນດ່ຽງປະສິດທິພາບແລະຂະບວນການ
ໂດຍຜ່ານຊ່ອງຄອດຂອງການແຜ່ກະຈາຍຂະໜາດອະນຸພາກກວ້າງ (ຄ່າ Span>1.5) ໃນຂະບວນການແບບດັ້ງເດີມ, ການນຳໃຊ້ເຕັກໂນໂລຊີ "ການຈັດອັນດັບອັດສະລິຍະ AI + ການປັບປຸງໂຄງສ້າງແກ້ວໃຫ້ປະເສີດ" ເພື່ອບັນລຸສາມຄວາມກ້າວໜ້າທີ່ສຳຄັນ:
- ການປັບແຕ່ງຂະຫນາດຂອງອະນຸພາກ: ກວມເອົາຂອບເຂດທັງຫມົດຂອງລະດັບ nanometer (D50 = 0.1-0.5μm), ລະດັບ submicron (D50 = 0.5-1.0μm), ແລະລະດັບການປັບໄຫມ (D50 = 1.0-2.0μm), ມີມູນຄ່າ batch CV ≤ 3.5%, ໄກກ່ວາສະເລ່ຍອຸດສາຫະກໍາຂອງ 7.8%;
- ການອອກແບບການແຜ່ກະຈາຍແຄບ: ມູນຄ່າ Span ≤ 1.0, D90/D10≤2.8, ຫຼີກເວັ້ນຄວາມບົກພ່ອງການປຸງແຕ່ງທີ່ເກີດຈາກ agglomeration ຂອງອະນຸພາກຂະຫນາດໃຫຍ່, ບັນລຸຄວາມເປັນເອກະພາບການກະຈາຍຂອງ 98% ໃນຕາຕະລາງໂພລີເມີ;
- ການຕື່ມຕ່ໍາແລະການຕິດໄຟສູງ: ຜະລິດຕະພັນຊັ້ນຮຽນ nano ສາມາດບັນລຸລະດັບ UL94 V-0 ດ້ວຍການເພີ່ມຕໍາ່ສຸດທີ່ 32% ໃນວັດສະດຸສາຍ EVA, ຫຼຸດຜ່ອນປະລິມານການຕື່ມ 25% ເມື່ອທຽບກັບຜະລິດຕະພັນທໍາມະດາແລະຮັກສາຄຸນສົມບັດກົນຈັກຂອງ substrate ຢ່າງຫຼວງຫຼາຍ.
2. ເທັກໂນໂລຍີການດັດແປງໃນບ່ອນປະກອບ: ແກ້ໄຂຈຸດເຈັບປວດຂອງຄວາມເຂົ້າກັນໄດ້ໃນການໂຕ້ຕອບ
ການພັດທະນານະວັດຕະກໍາ "silane / titanate + lubricant" ລະບົບການດັດແກ້ເພື່ອບັນລຸການເຄືອບ oleophilic ຂອງອາລູມິນຽມ hydroxide ultrafine, ບັນລຸໄດ້:
-Improved interface adhesion: ມຸມຕິດຕໍ່ນ້ໍາໄດ້ຖືກເພີ່ມຂຶ້ນຈາກຕົ້ນສະບັບ 20-30 °ເປັນ 90-115 °, ອັດຕາການດູດຊຶມຄວາມຊຸ່ມແມ່ນ≤ 0.15%, ແລະຄວາມເຂົ້າກັນໄດ້ກັບ substrates ເຊັ່ນ PP, ຢາງ epoxy, ແລະຢາງໄດ້ຖືກປັບປຸງ 50%;
- ການເພີ່ມປະສິດທິພາບການປຸງແຕ່ງ: ອັດຕາການໄຫຼຂອງລະລາຍ (MFR) ເພີ່ມຂຶ້ນ 23%, ອັດຕາການຂູດຂອງ extrusion ຫຼຸດລົງຕໍ່າກວ່າ 0.8%, ເຫມາະສໍາລັບຂະບວນການຫຼາຍເຊັ່ນ: molding, extrusion, coating, ແລະອື່ນໆ;
- ການຂະຫຍາຍການທໍາງານ: ທີ່ສາມາດປັບແຕ່ງໄດ້ retardant flame + ການນໍາຄວາມຮ້ອນສູງ (ການນໍາຄວາມຮ້ອນ ≥1.2W / (m·K)), ຕ້ານ flame + dielectric ຕ່ໍາຟັງຊັນປະສົມ (ε≤ 3.0), ເຫມາະສໍາລັບສະຖານະການພິເສດເຊັ່ນ: ພະລັງງານໃຫມ່ແລະ 5G.
3. ການຄວບຄຸມຄວາມບໍລິສຸດສູງແລະ impurity ຕ່ໍາ: ເຫມາະສົມສໍາລັບສະຖານະການລະດັບສູງທີ່ມີຄວາມຕ້ອງການທີ່ເຄັ່ງຄັດ
ເພື່ອຕອບສະ ໜອງ ກັບຄວາມຕ້ອງການທີ່ຮຸນແຮງ ສຳ ລັບສິ່ງເສດເຫຼືອໃນຂົງເຂດເອເລັກໂຕຣນິກແລະ semiconductor, ຂະບວນການ purification " gradient precipitation + ion exchange" ໄດ້ຖືກຮັບຮອງເອົາ:
- ເນື້ອໃນຫຼັກ ≥ 99.95%:Al(OH)₃ ຄວາມບໍລິສຸດເຖິງ 99.95% -99.99%, ເນື້ອໃນ Al₂O₃ ≥ 64.5%, Fe₂O₃≤50ppm, Na₂O≤20ppm, SiO₂≤30ppm, ເໜືອກວ່າມາດຕະຖານອຸດສາຫະກຳ.
ຄຸນລັກສະນະການນໍາຕ່ໍາ: ຄວາມຕ້ານທານ≥ 10 ¹⁰Ω· m, ເນື້ອໃນ chloride ion <10ppm, ຕອບສະຫນອງຄວາມຕ້ອງການ insulation ຂອງການຫຸ້ມຫໍ່ semiconductor ແລະອຸປະກອນການສື່ສານຄວາມຖີ່ສູງ;
-High whiteness standard: L value ≥ 95, ບາງຕົວແບບສູງເຖິງ 97 ຫຼືສູງກວ່າ, ເຫມາະສົມກັບຄວາມຕ້ອງການຮູບລັກສະນະຂອງຫອຍເຄື່ອງໃຊ້ໃນເຮືອນແລະວັດສະດຸຕົກແຕ່ງອາຄານ.
4. ຂະບວນການຜະລິດວົງປິດສີຂຽວ: ສອດຄ່ອງກັບຍຸດທະສາດການກາກບອນສອງ
ກໍ່ສ້າງລະບົບການຜະລິດ "ຝົນຕົກເປັນດ່າງຕໍ່າ+ການໄຫຼວຽນຂອງນ້ໍາໃນວົງປິດ" ເພື່ອບັນລຸການພັດທະນາແບບຍືນຍົງ:
- ການເພີ່ມປະສິດທິພາບການບໍລິໂພກພະລັງງານ: ການບໍລິໂພກພະລັງງານແບບຄົບວົງຈອນຕໍ່ໂຕນຂອງຜະລິດຕະພັນໄດ້ຖືກຫຼຸດລົງເປັນ 1,35 ໂຕນຂອງຖ່ານຫີນມາດຕະຖານ, ຫຼຸດລົງ 25% ເມື່ອທຽບໃສ່ກັບຂະບວນການແບບດັ້ງເດີມ, ແລະການປ່ອຍອາຍພິດກາກບອນຫຼຸດລົງ 30%;
- ການນຳໃຊ້ຊັບພະຍາກອນຄືນໃໝ່: ອັດຕາການນຳໃຊ້ຄືນຂອງນ້ຳເສຍຈາກການຜະລິດແມ່ນ ≥ 95%, ອັດຕາການຟື້ນຕົວຂອງຜະລິດຕະພັນຈາກຂີ້ຕົມແດງບັນລຸ 72%, ຕອບສະໜອງໄດ້ຄວາມຮຽກຮ້ອງຕ້ອງການຂອງເສດຖະກິດວົງວຽນ;
- ບໍ່ມີການປ່ອຍອາຍພິດທີ່ເປັນອັນຕະລາຍ: ຂະບວນການຜະລິດບໍ່ມີ VOC ຫຼືການປ່ອຍອາຍພິດໂລຫະຫນັກ, ແລະໄດ້ຜ່ານການຮັບຮອງລະດັບສູງສຸດຂອງລະບົບການຄຸ້ມຄອງສິ່ງແວດລ້ອມ ISO 14001.
1. ຍານພາຫະນະພະລັງງານໃຫມ່ແລະຫມໍ້ໄຟພະລັງງານ
- ສະຖານະການການນໍາໃຊ້: ການເຄືອບ diaphragm ຫມໍ້ໄຟ, ຊັ້ນ insulation ຊອງຫມໍ້ໄຟ, ສາຍປືນສາກໄຟ, ພາຍໃນນ້ໍາຫນັກເບົາ;
- ມູນຄ່າຫຼັກ: ຜະລິດຕະພັນລະດັບ Nano ໄດ້ຜ່ານການທົດສອບການແຜ່ກະຈາຍຂອງຄວາມຮ້ອນ, ມີການປະຕິບັດທີ່ຫມັ້ນຄົງໃນລະດັບອຸນຫະພູມທີ່ກ້ວາງຂອງ -40 ℃ ~ 120 ℃. ການນໍາໃຊ້ຫມໍ້ໄຟດຽວບັນຫາ 3,2 ກິໂລ, ເພີ່ມຂຶ້ນ 2,1 ເທົ່າເມື່ອທຽບກັບປີ 2020; ແບບຈໍາລອງຊັ້ນນໍາຄວາມຮ້ອນມີຄ່າການນໍາຄວາມຮ້ອນຂອງ ≥1.2W/(m·K), ປະສິດທິພາບການຫຼຸດຜ່ອນການເພີ່ມຂຶ້ນຂອງອຸນຫະພູມຫມໍ້ໄຟ;
2. ພື້ນຖານໂຄງລ່າງ 5G ແລະ ລະບົບເອເລັກໂຕຼນິກ ແລະ ໄຟຟ້າ
-Application scenarios: 5G base station casing, high-frequency copper-clad laminate (LTCC substrate), ສາຍຂໍ້ມູນ, ກາວຫຸ້ມຫໍ່ເອເລັກໂຕຣນິກ;
- ຄ່າຫຼັກ: ຄົງທີ່ dielectric ຕ່ໍາ (ε= 2.8-3.0), ປັດໄຈການສູນເສຍຕ່ໍາ, ຕອບສະຫນອງຄວາມຕ້ອງການລະບົບສາຍສົ່ງຄວາມຖີ່ສູງຂອງ 5G, ອັດຕາ sphericalization ຂອງ> 90% ສໍາລັບຜະລິດຕະພັນທີ່ມີຂະຫນາດ particle ≤0.5μm, ເຫມາະສໍາລັບຄວາມຕ້ອງການເຄື່ອງຈັກໃນຄວາມຖືກຕ້ອງຂອງອົງປະກອບເອເລັກໂຕຣນິກຄວາມແມ່ນຍໍາ;
3. ການຫຸ້ມຫໍ່ semiconductor ແລະການຜະລິດລະດັບສູງ
-Application scenarios: Semiconductor CMP polishing solution, electronics ceramics, LED packaging adhesive;
ມູນຄ່າຫຼັກ: 99.99% ຄວາມບໍລິສຸດສູງ, Fe≤30ppm、Na≤15ppm, chloride ion<10ppm, ຕອບສະຫນອງມາດຕະຖານອຸປະກອນການ SEMI semiconductor, ບັນລຸລະດັບປະລໍາມະນູ flatness ໃນ 12 ນິ້ວ silicon wafer polishing;
4. ອາຄານສີຂຽວ ແລະ ຜະລິດຕະພັນຢາງພາລາ
- ສະຖານະການຂອງຄໍາຮ້ອງສະຫມັກ: ການເຄືອບ fireproof A ລະດັບ, ຄະນະ insulation ຕ້ານ flame, ພື້ນ PVC, ສາຍແອວ conveyor ຢາງພາລາ;
- ຄຸນຄ່າຫຼັກ: ຄວາມຂາວສູງ (≥ 95%), ຄວາມເປັນພິດຂອງຄວັນໄຟຕໍ່າ, ປະຕິບັດຕາມມາດຕະຖານປ້ອງກັນອັກຄີໄພໃນອາຄານ GB/T 2408-2021, ຫຼຸດຜ່ອນການປ່ອຍອາຍພິດ CO 30% ໃນໄຟໄຫມ້, ແລະຮັກສາຄວາມຍືດຫຍຸ່ນທີ່ດີເຖິງແມ່ນວ່າມີປະລິມານການຕື່ມ 60% ໃນຜະລິດຕະພັນຢາງ.
Q1: ຄວາມແຕກຕ່າງກັນລະຫວ່າງ ultrafine aluminium hydroxide ແລະອາລູມິນຽມ hydroxide ທໍາມະດາແມ່ນຫຍັງ?
A: ຄວາມແຕກຕ່າງ: ① ຂະຫນາດຂອງອະນຸພາກ: Ultra fine aluminium hydroxide D50≤2μm, ການແຜ່ກະຈາຍຂະຫນາດ particle ເປັນເອກະພາບ, ໃນຂະນະທີ່ອະລູມິນຽມ hydroxide D50 ທໍາມະດາສ່ວນໃຫຍ່ແມ່ນຢູ່ຂ້າງເທິງ 5 μ m; ② Dispersibility: ອະລູມິນຽມ hydroxide ລະອຽດແມ່ນກະແຈກກະຈາຍໄດ້ຢ່າງງ່າຍດາຍໂດຍບໍ່ມີການ agglomeration ຫຼັງຈາກການປິ່ນປົວຕ້ານການ agglomeration, ໃນຂະນະທີ່ hydroxide ອາລູມິນຽມທໍາມະດາມີການກະຈາຍທີ່ບໍ່ດີແລະມີຄວາມສ່ຽງຕໍ່ການຜິດປົກກະຕິຂອງຜະລິດຕະພັນ; ③ Adaptability: ອະລູມິນຽມ hydroxide ລະອຽດສາມາດນໍາໃຊ້ໄດ້ສໍາລັບຜະລິດຕະພັນທີ່ມີຄວາມໂປ່ງໃສ, ຄວາມແມ່ນຍໍາສູງ, ໃນຂະນະທີ່ອາລູມິນຽມ hydroxide ທໍາມະດາແມ່ນເຫມາະສົມສໍາລັບຢາງທໍາມະດາ, ວັດສະດຸກໍ່ສ້າງແລະຂົງເຂດອື່ນໆ.
ຖ້າຫາກວ່າທ່ານກໍາລັງຊອກຫາສໍາລັບ ultrafine aluminium hydroxide, ພວກເຮົາຈະສະຫນອງການຮ່ວມມືລາຄາຕ່ໍາສຸດ. ຍິນດີຕ້ອນຮັບການເຈລະຈາແລະເຊື່ອມຕໍ່!
ທີ່ຢູ່
Lvye Road West, ສວນອຸດສາຫະ ກຳ ເຄມີເມືອງ Diao, ເຂດພັດທະນາເສດຖະກິດແລະເຕັກໂນໂລຢີ Mingshui, Zhangqiu, Jinan, ຈີນ
